公司以成熟的技術和穩定的工藝為您提供滿意的產品，拋光革是采用精密的技術將聚氨脂和纖維織物合成的拋光材料，在拋光過程中具有彈性好，力道柔和，無劃傷，無塌邊的特點。例如，拋光后的磁鋼汞晶片的厚度僅為8—10U，其精度之高可見一斑。為此，這就對拋光布提出非常苛刻要求；其表面微孔層既要滿足碲鎘汞晶片拋光的各項技術指標，同時。又要在其背面的膠粘劑層有優良的抗化學拋光液的能力，而保持足夠的剝離強度等特點。多用于高精度鏡面體的拋光。

　　公司生產銷售的單層結構拋光革、雙層結構拋光革，可以廣泛應用于水晶、玻璃、不銹鋼等產品的拋光，還可用于鍺酸鉍、砷化鎵等半導體材料及彩電玻殼、煤片、單晶硅和多晶硅的拋光，應用前景良好。

　　規格：
　　單層結構拋光革 寬度 1000mm        厚度：0.8  1.0  1.2  1.5  1.8  2.0  2.5 mm
　　雙層結構拋光革 寬度1380-1400 mm   厚度：1.2-1.4mm(精拋)

　　產品圖片：